하드마스크 소재 국산화 가시화 될 듯
하드마스크 소재 국산화 가시화 될 듯
  • 신종명 기자
  • 승인 2020.02.12 22:13
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DCT머티리얼-나노종합기술원, 고종횡비 메모리반도체용 기술자립
데일리포스트=과학기술정보통신부
데일리포스트=과학기술정보통신부

[데일리포스트=신종명 기자] 일본 등 외국에 의존해왔던 메모리반도체용 핵심기술로 꼽히는 하드마스크 소재의 국산화가 가시화될 것으로 전망된다.

12일 과학기술정보통신부(장관 최기영)에 따르면 DCT 머티리얼은 나노종합기술원과 함께 ‘고(高)종횡비 구조의 메모리반도체용 스핀코팅 하드마스크 소재’ 기술자립에 성공했다.

집적화된 반도체 제조를 위해 반도체 구조에서 가로와 세로비율을 의미하는 하드마스크는 반도체 미세회로를 세기는 포토마스크 보조재료로 식각공정을 통해 패턴을 효과적으로 형성시킬 수 있는 만드는 필수공정재료다.

스핀코팅은 반도체 기판을 회전시키면서 균일한 박막을 형성하는 기술을 의미한다.

과기정통부는 이번 하드마스크소재 개발로 그동안 종횡비가 높을수록 식각 공정 과정에서 패턴이 무너지기 쉬웠다는 단점이 해결됐다 설명했다.

이번에 개발된 소재는 기존 제품보다 평탄화 특성은 물론 가격경쟁력도 있어 메모리반도체용 하드마스크소재의 국산화 대체가 가능할 것으로 과기정통부는 내다봤다.

DCT 머티리얼 관계자는 “앞으로 중소기업 지원 테스트베드가 확충된다면, 반도체 소재의 자립기술을 더욱 앞당길 수 있을 것”이라고 말했다.


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